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您現在的位置：首頁 > 產品展示 > 低溫/恒溫/高溫槽 > 低溫恒溫槽 > CHDC-3010川宏立式低溫水浴鍋內外循環恒溫水槽
川宏立式低溫水浴鍋內外循環恒溫水槽
川宏立式低溫水浴鍋內外循環恒溫水槽
簡要描述：

川宏立式低溫水浴鍋內外循環恒溫水槽自帶制冷和加熱的高精度恒溫源， 可在機內水槽進行恒溫實驗，或通過軟管與其他設備相連，作為恒溫源配套使用。泛用于石油、化工、電子儀表、物理、化學、生物工程、醫藥衛生、生命科學、輕工食品、物性測試及化學分析等研究部門，高等院校，企業質檢及生產部門，為用戶工作時提供一個熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，對試驗樣品或生產的產品進行恒定溫度試驗或測試

更新時間：2025-12-18

訪問量：21

產品型號：CHDC-3010

廠商性質：生產廠家

品牌其他品牌溫度穩定性0.01℃
溫度范圍-30-100℃水浴槽容積10L
溫控功能制冷/加熱型價格區間1萬-2萬
循環功能內外循環儀器種類恒溫浴槽
產地類別國產應用領域環保,食品/農產品,化工,生物產業,制藥/生物制藥

川宏立式低溫水浴鍋內外循環恒溫水槽主要特征：

●采用全封閉壓縮機制冷，制冷系統具有過熱、過電流多重保護裝置

●具有內外循環作用，循環泵可以把槽內被恒溫液體外引,建立第二恒溫場

●采用全自動PID溫度設定程序及溫度傳感器，控溫精度高。溫度數字顯示。

●大屏幕液晶顯示，數據清晰，外形美觀，個性化界面讓工業控制不再單調。

●機身外殼采用鏡面防老化靜電噴漆技術，內膽、臺面均為不銹鋼，清潔衛生，美觀耐腐蝕。

●槽內冷液可外引,冷卻機外實驗容器,也可在槽內直接進行低溫、恒溫實驗。

川宏立式低溫水浴鍋內外循環恒溫水槽


川宏立式低溫水浴鍋內外循環恒溫水槽技術參數：

型號

溫度范圍

℃

溫度波

動度℃

控溫精度℃

工作槽容積

mm3

工作槽開

口mm2

槽深

mm

循環泵流

量L/min

排水

CHDC-3006

﹣30～100

±0.1

0.1

250×200×150

180×140

150

6

有

CHDC-3010

﹣30～100

±0.1

0.1

250×200×200

180×140

200

6

有

CHDC-3015

﹣30～100

±0.1

0.1

300×250×200

235×160

200

6

有

CHDC-3020

﹣30～100

±0.1

0.1

280×250×300

235×160

300

6

有

CHDC-3030

﹣30～100

±0.1

0.1

420×330×230

310×280

230

13

有

應用領域
低溫恒溫槽作為現代實驗室及工業生產中需要的精密溫控設備，應用領域廣泛，以下為您詳細介紹：
生物醫藥領域
藥物研發與儲存：為藥物研發、疫苗儲存提供穩定且精確的低溫環境，確保藥物和疫苗的活性與有效性，保證了實驗數據的準確性和可重復性。在基因工程研究中，還能精確控制 DNA、RNA 等生物分子的保存與操作溫度。
細胞培養與生物酶活性測試：在細胞培養、藥物篩選、酶促反應等生物實驗中，為細胞、酶及微生物等生物樣本提供穩定的生存環境，是生物科技研究的重要工具。
臨床治療：在醫療臨床治療中也有重要應用，如超導磁共振、直線加速器、CT、低磁場核磁共振、X光機、醫用冷帽、降溫毯等。
材料科學領域
材料性能測試：無論是高分子材料的低溫性能測試，還是金屬材料的低溫相變研究，都能提供理想的實驗條件，助力科研人員探索材料的極限性能與潛在應用。還可用于檢測材料是否耐低溫、耐高溫、耐腐蝕等。
特定材料研究設備配套：適用于電鏡、X 射線衍射、X 熒光、真空濺射電鍍、真空鍍膜機、ICP 刻蝕、各種半導體設備、疲勞試驗機、化學沉積系統、原子沉積系統等。
化學合成與催化反應領域
在化學合成與催化反應中，通過精確調控反應體系的溫度，不僅優化了反應效率，還促進了新型催化劑與合成路徑的發現。也可用于化學反應的溫度控制、物質性質研究、樣品保存等，確保實驗條件的一致性，提高實驗結果的可靠性。
環保與新能源技術領域
在鋰離子電池的研發與測試中，用于模擬j端環境下的電池性能，為提升電池的低溫續航能力與安全性提供關鍵技術支持。
工業生產領域
在半導體制造、電子元器件測試、精密機械加工等行業中，用于控制工藝過程中的溫度環境，保障產品質量和生產效率。


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